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當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  紫外臭氧清洗機  >  OS系列  >  L2002A2OS紫外臭氧清洗機

OS紫外臭氧清洗機

簡要描述:我們所提供的OS紫外臭氧清洗機系統(tǒng)是一種簡單,經(jīng)濟,高效的材料表面清洗設(shè)備。只需把樣品放置到托盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時間,按下運行按鈕,就可以在幾分鐘內(nèi),快速去除大多數(shù)無機基材上的有機污染物,為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧,將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而*跡。這種方法可產(chǎn)生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。

  • 產(chǎn)品型號:L2002A2
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-05-16
  • 訪  問  量:2501

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詳細介紹

應(yīng)用工藝:

•改善表面親水性

•表面清洗

•準(zhǔn)備薄膜沉積

•表面處理

•紫外固化

•表面滅菌消毒

•去除表面單分子膜

•表面氧化

•清洗AFM / STM探針

•清洗光學(xué)元件

 

可清洗的基材示例:

•石英

•硅

•氧化硅

•氮化硅

•金

•鎳

•鋁

•砷化鎵

•礬土

•玻璃

•不銹鋼

 

可去除的污染物示例:

•光刻膠

•樹脂

•人體皮膚油脂

•清洗溶劑的殘留物

•塑料/硅片表面油漬

•助焊劑

 

產(chǎn)品特點:

•成本低;

120x120mm樣品臺;

•Z大處理樣品高度為14mm

•抽屜式樣品臺,簡單方便;                                

•樣品臺自安全聯(lián)鎖,防止對人身傷害;    

LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”;

60分鐘計時器;

•高強度紫外線燈源;

•可控溫的樣品臺;

•樣品清洗無需溶劑;

•超凈表面。

 

下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響,以改善表面親水性。
 

水滴在OTS處理的硅基底(300納米二氧化硅表面)上,經(jīng)過紫外臭氧清洗處理前(左圖)和處理后(右圖)的效果對比。

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