當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 紫外臭氧清洗機 > OS系列 > L2002A2OS紫外臭氧清洗機
簡要描述:我們所提供的OS紫外臭氧清洗機系統(tǒng)是一種簡單,經(jīng)濟,高效的材料表面清洗設(shè)備。只需把樣品放置到托盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時間,按下運行按鈕,就可以在幾分鐘內(nèi),快速去除大多數(shù)無機基材上的有機污染物,為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧,將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而*跡。這種方法可產(chǎn)生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。
詳細介紹
應(yīng)用工藝:
•改善表面親水性
•表面清洗
•準(zhǔn)備薄膜沉積
•表面處理
•紫外固化
•表面滅菌消毒
•去除表面單分子膜
•表面氧化
•清洗AFM / STM探針
•清洗光學(xué)元件
可清洗的基材示例:
•石英
•硅
•氧化硅
•氮化硅
•金
•鎳
•鋁
•砷化鎵
•礬土
•玻璃
•不銹鋼
可去除的污染物示例:
•光刻膠
•樹脂
•人體皮膚油脂
•清洗溶劑的殘留物
•塑料/硅片表面油漬
•助焊劑
產(chǎn)品特點:
•成本低;
•120x120mm樣品臺;
•Z大處理樣品高度為14mm;
•抽屜式樣品臺,簡單方便;
•樣品臺自安全聯(lián)鎖,防止對人身傷害;
•LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”;
•60分鐘計時器;
•高強度紫外線燈源;
•可控溫的樣品臺;
•樣品清洗無需溶劑;
•超凈表面。
下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響,以改善表面親水性。
水滴在OTS處理的硅基底(300納米二氧化硅表面)上,經(jīng)過紫外臭氧清洗處理前(左圖)和處理后(右圖)的效果對比。
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