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簡(jiǎn)要描述:MINN M6勻膠旋涂?jī)x 可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片,使用無(wú)刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達(dá)控制,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3英寸全彩觸屏人機(jī)界面操作,簡(jiǎn)單易用。M6 Spin Coater外形美觀,結(jié)構(gòu)緊湊,專為實(shí)驗(yàn)室,研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價(jià)比高的勻膠涂覆設(shè)備。M6 Spin Coater在材料、化學(xué)或生物等實(shí)驗(yàn)室被廣泛用于薄膜制備,納米薄膜研究等相關(guān)領(lǐng)域。
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MINN M6勻膠旋涂?jī)x 可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片,使用無(wú)刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達(dá)控制,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3英寸全彩觸屏人機(jī)界面操作,簡(jiǎn)單易用。M6 Spin Coater外形美觀,結(jié)構(gòu)緊湊,專為實(shí)驗(yàn)室,研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價(jià)比高的勻膠涂覆設(shè)備。MINN M6勻膠旋涂?jī)x 在材料、化學(xué)或生物等實(shí)驗(yàn)室被廣泛用于薄膜制備,納米薄膜研究等相關(guān)領(lǐng)域。
二、技術(shù)參數(shù)
▲1.保護(hù)氣體裝置:旋涂過(guò)程中對(duì)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)進(jìn)行氣流保護(hù)(可選擇取消);
2.支持Wafer尺寸:小標(biāo)配為10 mm,可選配到3mm或5mm;大到直徑6英寸(150mm)的圓片或邊長(zhǎng)5x5英寸(125x125mm)的方片,無(wú)需更換片托;
3.設(shè)備材質(zhì):全部采用易清潔的NPP天然聚丙烯材質(zhì),環(huán)保,抗震,耐腐蝕;
▲4.無(wú)刷馬達(dá):直流雙向旋轉(zhuǎn),正反旋轉(zhuǎn)速度±100~±12000rpm,穩(wěn)定性能誤差±1rpm;
5.馬達(dá)安全模式:可設(shè)置非真空模式,轉(zhuǎn)速3000rpm,加速度500rpm/s;
6.加速度可控范圍:100-30000RPM/S;
7.工藝時(shí)間:每步可以設(shè)定45小時(shí),精度不超過(guò)0.1秒;
8. PLC控制:4.3英寸全彩觸摸屏高精度PLC可編程的控制器;
9.程序段:可存儲(chǔ)99個(gè)程序段,每個(gè)程序段可設(shè)置50個(gè)不同步驟的速度狀態(tài);
10.無(wú)油真空泵:220V/50Hz;真空吸附范圍25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可調(diào)節(jié);
11.擴(kuò)展功能:可升級(jí)預(yù)留端口,可擴(kuò)展自動(dòng)滴膠裝置、自動(dòng)去邊裝置、手動(dòng)去邊等選配項(xiàng)。
三、設(shè)備性能特點(diǎn)
馬達(dá)控制:無(wú)刷直流雙向旋轉(zhuǎn);
智能程控:控制器可拆卸,4.3英寸寸全彩觸屏,配有智能觸碰筆,按鍵有提示音,選中功能有顏色區(qū)分,適用于手套箱;
腔體材質(zhì):易清潔的NPP天然聚丙烯材質(zhì),抗腐蝕性;
模式切換:可自由切換單步模式、多步模式和曲線分析圖;
防止堵膠:雙真空腔設(shè)計(jì);
預(yù)留端口:可升級(jí)擴(kuò)展其他多種選配項(xiàng);
密碼功能:設(shè)有開(kāi)機(jī)密碼和管理員密碼,管理員有權(quán)限修改核心參數(shù);
安全報(bào)警:系統(tǒng)蓋板嵌鎖、真空異常、通氣異常、系統(tǒng)進(jìn)膠、馬達(dá)轉(zhuǎn)速異常均會(huì)報(bào)警,通過(guò)聲音和界面對(duì)話框提示;
氣流保護(hù):旋涂過(guò)程中對(duì)馬達(dá)進(jìn)行氣流保護(hù)(也可選擇取消),易維護(hù),易清潔,大幅提高馬達(dá)使用壽命;
四、應(yīng)用領(lǐng)域
主營(yíng)產(chǎn)品:
Laurell勻膠機(jī)
Harrick等離子清洗機(jī)
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺(tái)
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機(jī)
Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Nilt納米壓印機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)
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