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簡要描述:AS-Micro真空快速退火爐,性能,可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃,zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。
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AS-Micro真空快速退火爐,性能,可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃,zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。
產(chǎn)品特點:
1、 紅外鹵素燈管加熱,冷卻采用風冷(低噪音水平,無需壓縮空氣);
2、加熱由功率控制而非電壓控制,避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問題,保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性,即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達到初的熱處理效果;
3、石英腔體,腔體冷卻采用水冷,冷壁設(shè)計,雙層不銹鋼;
冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點在于:1、無記憶,2、工藝重復(fù)性高,3、冷卻速度快;
4、反應(yīng)腔室的設(shè)計,氣體的進入口設(shè)計在wafer的表面,避免在退火過程中冷點的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性;
5、快速數(shù)字PID控溫;
6、熱電偶設(shè)計上采用中間和邊緣安裝模式,測試的樣品的溫度,控溫精準;
7、大氣和真空工藝均適合,凈化氣體配針閥;
8、zui多3工藝氣體,配數(shù)字質(zhì)量流量控制器;
9、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度;
10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計,用于小樣品測試;
11、可選配分子泵,用于高真空測試;
12、可選配雙腔體設(shè)計, 達到高潔凈工藝,避免交叉污染。
產(chǎn)品標準配置及規(guī)格參數(shù):
1、樣品大尺寸:3-inch;
2、紅外鹵素燈:6支; 大功率:15KW;
3、紅外鹵素燈冷卻方式:風冷;
4、溫度范圍:室溫~1250 ℃;
5、升溫速率:0.1 ℃~250 ℃/s ;
6、溫度控制:快速數(shù)字PID控制;
7、熱電偶:2N型熱電偶;
8、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計:壓力:2bars,zui多可配置3路;
9、配置真空泵及真空規(guī):真空度:10e-3 Torr;(分子泵選配10e-6 Torr)
10、尺寸:700*700*750mm (W*D*H); 重量:凈重82Kg;
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