韓國Mask Aligner光刻機(jī)

簡要描述：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。

產(chǎn)品型號：M-150和P-150
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2024-05-17
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掩膜曝光光刻機(jī)

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M-150

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。M系列是用于光刻的掩模對準(zhǔn)器。M-150專為6英寸晶圓設(shè)計，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實驗室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)

類型	PLC手動控制系統(tǒng)	波長	350 ~ 450 nm
掩膜版尺寸	最大7英寸	紫外光強(qiáng)度	15 ~ 25/ ?
基片尺寸	6英寸	紫外線光束均勻度	3 ~ 5 %
分辨率	1 ?	接觸模式	真空/硬/軟/接近
對準(zhǔn)精度	1 ?	顯微鏡	雙CCD變焦顯微鏡
紫外燈和電源	350W	選配項	Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA

P-150

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。P-150專為6英寸晶圓設(shè)計，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線源。365nm處的光功率為25mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實驗室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)

類型	觸摸屏PC手動控制系統(tǒng)	波長	350 ~ 450 nm
掩膜版尺寸	最大7x7英寸	紫外光強(qiáng)度	15 ~ 25/ ?
基片尺寸	6英寸	紫外線光束均勻度	3 ~ 5 %
分辨率	1 ?	接觸模式	真空/硬/軟/接近
對準(zhǔn)精度	1 ?	顯微鏡	雙CCD變焦顯微鏡
紫外燈和電源	350W	選配項	IR BSA, CCD BSA

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