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PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁, 有幾種不同的電極設(shè)計(jì),包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,用于小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計(jì)算機(jī)控制,多級(jí)程序控制和組件控制,操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。
PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料。 PlasmaSTAR®系統(tǒng)擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。
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