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美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達(dá)到200mm,溫度可以達(dá)到1200攝氏度,處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行,做多可支持4~6路進(jìn)氣,可以用到的氣體包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。
快速退火爐系統(tǒng)SSI是一個(gè)簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng),適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級(jí)硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等)。
SSI快速退火爐系統(tǒng)是一個(gè)簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng),適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級(jí)硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等)。
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