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MYCRO*美國恩科優(yōu)NXQ Mask Alignment光刻機(jī),是quanqiu*的光刻系統(tǒng),在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗(yàn),quanqiu售出1000多套設(shè)備,為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
MYCRO*美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)(Mask Aligner),是*的光刻系統(tǒng),在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗(yàn),售出1000多套設(shè)備,為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
MYCRO*美國NXQ光刻機(jī)(Mask Aligner),是*的光刻系統(tǒng),在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗(yàn),已售出1000多套設(shè)備,為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
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